在半導體先進制程持續迭代的今天，深紫外（DUV）光刻、化學機械研磨（CMP）、濕法刻蝕、離子注入等關鍵工藝，對環境潔凈度提出近乎苛刻的要求。氨氣（NH?）、鹽酸（HCl）、（HF）、NO?、TVOCs等痕量級空氣分子污染物（AMC），即便濃度低至 ppb 量級，也會引發光刻膠中毒、關鍵尺寸（CD）漂移、晶圓缺陷等問題，直接影響產品良率與長期可靠性。

杜克泰克 DK?S4500F?AMC 痕量級空氣分子污染物監測系統，基于腔增強吸收光譜（CEAS） 核心技術，融合多路徑高精度檢測方案，實現sub?ppb 級、秒響應、全天候連續監測，為半導體潔凈環境提供穩定可靠的污染監控解決方案。

多技術融合，實現超痕量精準檢測

系統采用多技術集成設計，覆蓋酸性、堿性、有機類等典型 AMC 污染物，滿足先進制程全場景監測需求：

• EIMS 增強離子遷移譜：精準檢測 Ma 類污染物（HF、HCl、HNO?等），電離?遷移?探測三步定量，信號與濃度線性對應，數據穩定可信。

• 紫外脈沖熒光法：專項監測 NH?與 NO?，光學反應室配合高靈敏光電倍增管，檢出限＜0.1ppb。

• 增強型 GC?FID/GC?PID：高效分析 MC 類污染物（DOP、DBP、DEP、BHT、TVOCs 等），以氫火焰離子化原理實現準確定量。

核心氣體檢測限低至0.1ppb，NH?＜0.1ppb，量程比達 1:100000，準確度 ±2%，單通道響應時間僅5 秒，真正做到微量污染 “早發現、準測量、快響應"。

工業級穩定設計，7×24h 無人值守

面向半導體廠區嚴苛環境，系統以高可靠性為核心：

• 全固態電子器件，無可移動部件，故障率低、抗干擾能力強。

• 出廠完成標定，免現場頻繁校準，長期穩定性優異。

• 斷電數據不丟失，2GB 大容量存儲可連續保存2 年數據（15 秒采樣間隔）。

• 低維護量、長免維護周期，大幅降低運維成本與停機風險。

• 采樣管路采用 PFA、PVDF 防腐材質，搭配低吸附 SiO?涂層不銹鋼閥組，采樣距離最遠可達80 米，全程低損耗、無二次污染。

多點全域監測，靈活適配廠區布局

系統支持4～64 通道多點采樣，通道數可按現場需求自由選配，每個通道采樣時間 1～99min 獨立可編程，可自定義吹掃與采樣順序，滿足光刻區、工藝機臺、廠務風路等多點同時監控。適配場景覆蓋：

• DUV 及先進光刻區 AMC 實時監控

• CMP 與濕法刻蝕區域酸性 / 堿性氣體監測

• 離子注入、薄膜沉積區域 AMC 控制

• 廠務送風 / 回風溯源、過濾器效能管理

智能交互與開放集成，輕松接入廠務系統

配備7 英寸觸摸屏，支持數值、表格、趨勢曲線多形式展示，界面直觀易操作。系統提供RS232、4?20mA、Modbus等開放通訊協議，可快速接入 MES / 廠務監控系統，支持遠程操作與數據可視化管理。數據支持 U 盤、USB、以太網、串口多種方式導出，便于追溯、分析與合規存檔，同時配備獨立可編程報警與繼電器輸出，異常即刻響應，保障生產安全。

核心參數速覽

• 檢測下限：HF/HCl/NO?等0.1ppb，NH?＜0.1ppb

• 響應時間：單通道5 秒

• 準確度：±2%

• 通道數：4～64 通道可選

• 采樣距離：最遠80 米

• 工作電源：115–230Vac 50/60Hz

• 數據存儲：約 2GB，可存2 年連續數據

DK?S4500F?AMC痕量級空氣分子污染物監測系統以超痕量檢測、高穩定運行、全域化覆蓋、智能化管理，成為半導體先進制程AMC監測的優選方案，助力企業提升良率、保障品質、控制風險。

杜克泰克｜以精準監測，守護半導體潔凈未來